中華網财經(jīng)7月29日訊，南大光電發(fā)布公告稱我些，公司承擔的國(guó)家科技重大專項靜中（02專項）“極大規模集成(chéng)電路制造裝備及成(chéng)套工請兒藝”之“先進(jìn)光刻膠産品開(kā飛跳i)發(fā)與産業化”項目，今日收到項目綜合績效評價結論書，項目通過(會白guò)了專家組驗收。

南大光電表示，ArF光刻膠材料是集成(chéng)討著電路制造領域的重要關鍵材料，可以用于9去能0nm-14nm甚至7nm技術節點的集成(chéng)電路亮白制造工藝，廣泛應用于高端芯片制造（如邏輯芯片、存儲芯片、AI芯看吃片、5G芯片和雲計算芯片等）。

長(cháng)期以來，國(gu木為ó)内高端光刻膠市場長(cháng)期爲國(guó)外巨頭所壟斷，對(duì)月又我國(guó)芯片制造具有“卡脖子”風險。盡快實現先進(j醫低ìn)光刻膠材料的全面(miàn)國(guó)産化和産業化具慢飛有十分重要的戰略意義和經(jīng)濟價值。本項目研發(fā文鐘)任務的圓滿完成(chéng)，預計將(j那物iāng)對(duì)公司光刻膠事(shì)業的未來發(fā區花)展産生積極影響。

要注意的是，公司目前的ArF光刻膠産品知外尚未實現規模化量産。ArF光刻膠的小間複雜性決定了其在穩定量産階段仍然存在工藝上的諸多風險，不僅需謝暗要技術攻關，還(hái)需要在應用中進(jìn)行不看工藝的改進(jìn)、完善。同時(shí)，ArF光刻膠産品國(g畫林uó)産化替代受品質、客戶的嚴格要求，後(h公老òu)續是否能(néng)取得下遊客戶的大批量訂著綠單，能(néng)否大規模進(jìn)入市場仍存在較多的不确定門身性。這(zhè)些都(dōu)會(huì)影響ArF光刻膠的量産規模現媽和經(jīng)濟效益。敬請廣大投資者注意投男去資風險。

資料顯示，南大光電是主要從事(shì)先進(jìn)前遠數驅體材料、電子特氣、光刻膠及配套材料三類半導線很體材料産品生産、研發(fā)和刀窗銷售的高新技術企業。

值得一提的是，光刻膠及配套材料是光刻工藝中的關鍵材料，主要應用于劇銀集成(chéng)電路和半導體分立器件的細微圖形加工。高端光刻膠是集成(作木chéng)電路實現28nm、14nm乃至10畫小nm以下制程的關鍵。

長(cháng)期以來，全球高制件端光刻膠市場被(bèi)以日本合成(ch們美éng)橡膠、東京應化、信越化學(xué)、富士電子材料等爲代表的國(gu跳吧ó)外技術壟斷。

而在我國(guó)，高端光刻膠領域仍有大量品種會離(zhǒng)短缺或空白，因此，高端光刻膠技術成(拍慢chéng)爲了我國(guó)芯片制造的“卡脖子”如書難題，相關領域進(jìn)口替代需求緊迫。

光刻工序是集成(chéng)電路制造中重要的一環，是將(jiāng)火年設計好(hǎo)的集成(chéng)電路圖形由掩膜版轉移懂知至矽片後(hòu)再進(jìn)行下一步刻蝕的工妹工藝，是集成(chéng)電路制造中耗時(shí)大、難度高的工藝下樂。光刻時(shí)會(huì)在矽片上塗一層不暗光刻膠，經(jīng)紫外線曝光後(hòu)，光刻膠區議化學(xué)性質發(fā)生變化，再經(jīng)顯影後(hòu)技對將(jiāng)曝光的光刻膠去除，實現圖形從掩膜版到矽片的轉移。錯高光刻膠作爲光刻環節的重要耗材，其質量和暗著性能(néng)直接影響集成(chéng)電路制造産線良率，是集成森呢(chéng)電路制造的核心材料之村師一。

按照應用領域的不同，光刻膠又可以分爲印刷電路闆（PCB）用光刻膠睡離、液晶顯示（LCD）用光刻膠、半導體是能用光刻膠和其他用途光刻膠。PCB光刻時秒膠和LCD光刻膠技術壁壘相對(duì)較低大河，國(guó)産化率較高，而半導江蘇南大光電材料股科日份有限公司2020年年度報告摘要5體光刻膠代表著(zhe)光刻膠技術先進(jì友跳n)水平，尤其是高端光刻膠，目前國(guó)内公司量産層面(匠很miàn)近乎空白。

我國(guó)企業也在積極研發(fā)高端光刻膠産品，以打破國(gu件時ó)外壟斷，實現光刻膠的進(jìn)口替代。國(guó)内從事(shì)愛家高端光刻膠研發(fā)和生産的公司主討劇要有南大光電、上海新陽、晶瑞股份、北京科華等習街。

近期，我們可以看到，A股的光刻膠闆塊備受資金追捧，截至7月29到討日收盤，光刻膠闆塊當天更是大漲，南大光電、容大感光等個股漲停，更有多說路支個股漲超10%。自5月27日以來，南大光電兩(li校近ǎng)個月漲幅近150%，可謂是“潇灑”。